Metody analýzy povrchů a tenkých vrstev

Sylabus

Základy rastrovací sondové mikroskopie. Silová interakce mezi hrotem a povrchem.

Rozlišení a artefakty měření. Kontaktní, semikontaktní a nekontaktní režimy měření.

Pokročilé režimy měření (lokální elektrické, viskoelastické a tribologické vlastnosti) . AFM spektroskopie. Statistická analýza povrchů.

Rentgenová fotoelektronová spektroskopie. Princip metody, zdroje rentgenovského záření, elektronový analyzátor.

Kvalitativní a kvantitativní analýza. Povrchová citlivost.

Augerovy elektrony. Chemický posuv.

Omezení metody. Metody zpracování dat, analýza pomocí programu CASA XPS.

Povrchy a tenké vrstvy vs. záření v optickém oboru. Význam jednotlivých spektrálních oborů.

Absopční a interferenční metody. Fourierovská spektroskopie.

Odraz polarizovaného světla, princip elipsometrie. Přesnost a citlivost elipsometrie, omezení.

Elipsometrická analýza opticky netriviálních struktur.

Anotace

Základy rastrovací sondové mikroskopie. Rozlišení a artefakty měření. Kontaktní, semikontaktní a nekontaktní režimy měření. Pokročilé režimy měření. AFM spektroskopie. Statistická analýza povrchů.

Rentgenová fotoelektronová spektroskopie Princip metody, zdroje. Kvalitativní a kvantitativní analýza. Povrchová citlivost. Augerovy elektrony. Chemický posuv. Omezení metody. Metody zpracování dat.

Povrchy a tenké vrstvy vs. záření v optickém oboru. Význam jednotlivých spektrálních oborů. Absorpční, interferenční metody. Fourierovská spektroskopie. Odraz polarizovaného světla, elipsometrie.