Základy přípravy a charakterizace tenkých vrstev

Sylabus

1) Vymezení pojmů tenká vrstva, nízkoteplotní plazma, vakuum.

2) Úvod do problematiky vakuové depozice tenkých vrstev - napařování, magnetronové naprašování, reaktivní magnetronové naprašování, plazmová polymerace.

3) Měření optických vlastností a tlouštěk tenkých vrstev - spektroskopická elipsometrie

4) Metody chemické analýzy povrchů - XPS, FTIR, EDX

5) Zkoumání morfologie povrchů - AFM, SEM

6) Měření mechanických vlastností pomocí nonoindentace

7) Měření smáčivosti a povrchové energie

Anotace

V rámci předmětu se studenti seznámí se základy přípravy tenkých vrstev s využitím nízkoteplotního plazmatu a s jejich charakterizací. Po teoretickém úvodu do problematiky bude výuka probíhat přímo v laboratořích KMF, kde se studenti seznámí s prací na automatizované depoziční aparatuře umožňující přípravu tenkých vrstev kovů, oxidů kovů a plazmových polymerů.

Předmět má experimentální charakter.