Publikace
- Deposition of thin films with defined stoichiometry by the plasma-chemical reactor with multi-hollow cathode system1997 | Matematicko-fyzikální fakulta, Ústřední knihovna
- Measurement of the parameters of atmospheric-pressure barrier-torch discharge2005 | Matematicko-fyzikální fakulta, Ústřední knihovna
- BaxSr1-xTiO3 thin films deposited by RF hollow cathode plasma jet technique2005 | Matematicko-fyzikální fakulta, Ústřední knihovna
- Low temperature deposition of thin films on polymer substrates by low pressure and atmospheric pressure plasma-jet system2005 | Matematicko-fyzikální fakulta, Ústřední knihovna
- Investigation of Atmospheric Pressure Plasma-Jet System Used For Deposition of ZnO Thin Films2005 | Matematicko-fyzikální fakulta, Ústřední knihovna
- A Study of the Barrier Torch Discharge Applied for the Thin Film Deposition2005 | Matematicko-fyzikální fakulta, Ústřední knihovna
- Low pressure and atnospheric pressure plasma-jet systems and their application for deposition of thin films2004 | Matematicko-fyzikální fakulta, Ústřední knihovna
- Atmospheric pressure discharges and their applications2004 | Matematicko-fyzikální fakulta, Ústřední knihovna
- Low pressure deposition of LixZnyO thin films by means of RF plasma jet system2004 | Matematicko-fyzikální fakulta, Ústřední knihovna
- Plasma parameters measurement in the plasma-chemical reactor up to atmospheric pressure2003 | Matematicko-fyzikální fakulta, Ústřední knihovna
Loading network view...