Předměty
Publikace
- Effect of mid-frequency discharge assistance on dual-high power impulse magnetron sputtering2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Highly ionized physical vapor deposition plasma source working at very low pressure2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Plasma diagnostics of low pressure high power impulse magnetron sputtering assisted by electron cyclotron wave resonance plasma2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Energy Resolved Ion Mass Spectroscopy of the Pulsed Magnetron Discharge2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Size-controlled formation of Cu nanoclusters in pulsed magnetron sputtering system2011 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges2011 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Time-Resolved Diagnostics of Dual High Power Impulse Magnetron Sputtering With Pulse Delays of 15 us and 500 us2011 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Výzkum časové závislosti naprašování v duálním vysokovýkonovém impulsním magnetronu s uzavřeným magnetickým polem během depozice tenkých vrstev Ti-Cu2010 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Efekt dopování dusíkem na tvorbu tenkých vrstev TiOxNy při reaktivním vysokovýkonovém impulsním magnetronovém naprašování2010 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Investigation of Tin Removal for Liquid Metal Tokamak Divertor by Low Pressure Argon Arc with Hot Tungsten Cathode System2023 | Matematicko-fyzikální fakulta
Loading network view...