Předměty
Publikace
- Effect of mid-frequency discharge assistance on dual-high power impulse magnetron sputtering2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Highly ionized physical vapor deposition plasma source working at very low pressure2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Plasma diagnostics of low pressure high power impulse magnetron sputtering assisted by electron cyclotron wave resonance plasma2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Ti/TiO2 Thin Films Deposition by Means of Hollow Cathode Plasma Jet2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Energy Resolved Ion Mass Spectroscopy of the Pulsed Magnetron Discharge2012 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Langmuir probe study of a magnetically enhanced RF plasma source at pressures below 0.1 Pa2011 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges2011 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Výzkum časové závislosti naprašování v duálním vysokovýkonovém impulsním magnetronu s uzavřeným magnetickým polem během depozice tenkých vrstev Ti-Cu2010 | Matematicko-fyzikální fakulta
- Efekt dopování dusíkem na tvorbu tenkých vrstev TiOxNy při reaktivním vysokovýkonovém impulsním magnetronovém naprašování2010 | Matematicko-fyzikální fakulta
- : Iontový proud na substrát v depozičním systému s impulsní stejnosměrně buzenou plazmovou tryskou s dutou katodou2010 | Matematicko-fyzikální fakulta
Loading network view...
