Teplotně aktivovaný nevypařovatelný getr (NEG) Ti-Zr-V byl studován pomocí rentgenové fotoelektronové spektroskopie a spektroskopie nízkoenergetických odražených iontů. Metoda hloubkového profilování byla použita k určení jednotlivých komponent v oblasti blízké povrchu.
Zbytkový oxid zjištěný i u plně aktivovaného NEGu je tvořen především nízkovalenčními suboxidy zirkonu a titanu v nejsvrchnější povrchové vrstvy. Karbidy vzniklé během aktivačního procesu zůstávají na povrchu a jejich koncentrace prudce klesá s hloubkou.